電子工業(yè)水處理系��(tǒng)案例分析��

    參數(shù)要求��

    1、設(shè)備產(chǎn)水規(guī)模： 系統(tǒng)總��(jìn)��12m3/h

    反滲透出水≥6m3/h

    EDI出水6m3/h

    2、出水水��(zhì)��

    2.1反滲透部分：

    回收率：75%（一��(jí)反滲透）��80-85%（二��(jí)反滲透）

    脫鹽率：98%（一年內(nèi)��

    2.2 EDI部分��

    電阻率：��16 MΩ.cm

    回收率：90-95%

    3、控制水平：系統(tǒng)��(shí)��(xiàn)全自��(dòng)��(yùn)��，要求通過可編程控制器（PLC）實(shí)��(xiàn)��

    方案��(shè)��(jì)��

    根據(jù)電子工業(yè)客戶用水要求，整套設(shè)備運(yùn)行時(shí)是一體化的操��。設(shè)備主要有三部分組成：多介��(zhì)過濾��、兩��(jí)反滲透（純水��(shè)��）、EDI��(shè)備（超純水設(shè)����。在該水處理工藝��，考慮到原水的變化性，在反滲透設(shè)備中添加阻垢劑加藥裝置和PH控制裝置，以利于��(shè)備的��(yùn)����

    ��水處理設(shè)��的長(zhǎng)期運(yùn)行中，不可避免的��(huì)有部分污染物存在膜元件表面造成��(shè)備污��，該��(shè)備設(shè)置一套清洗裝��，用于對(duì)兩級(jí)反滲透系��(tǒng)和EDI��(shè)備��(jìn)行藥洗清��，以迅速恢��(fù)性能，即可保證生��(chǎn)用水的需��，又可延��(zhǎng)��(shè)備的使用壽命��

    ��(shè)備采用自��(dòng)與手��(dòng)的控制操��，過濾器的反洗操作采用手��(dòng)操作，設(shè)備運(yùn)行采用PLC集中控制，通過水箱的液位高低操作自��(dòng)控制反滲透純水設(shè)����EDI超純水設(shè)��的起����

    整套水處理設(shè)備主要包含預(yù)處理裝置，兩��(jí)反滲透脫鹽裝置，EDI裝置等精處理脫鹽裝置以及相關(guān)清洗裝置等相��(guān)配件��