在超純水的制取過程中，通過��(duì)��(jìn)��EDI超純水設(shè)��的EDI模塊��(jìn)行��(jìn)行預(yù)處理��，常��(guī)情況下，EDI模塊存在��(fā)生污堵的頻率��(huì)降低。但��，雖然EDI模塊的��(jìn)水條件在很大程度上減少了模塊��(nèi)部阻塞的��(jī)��(huì)，但隨著超純水設(shè)����(yùn)行時(shí)間的延展，EDI模塊��(nèi)部水道還是有可能��(chǎn)生阻塞，這主要是EDI��(jìn)水中含有較多溶質(zhì)，在濃水室中形成鹽的沉淀。遇到這種情況，我們可以通過化學(xué)清洗的方法對(duì)EDI模塊��(jìn)行清��，使之恢��(fù)到原來的技��(shù)特����

    純水��(shè)����(rèn)為通常判斷EDI模塊被污染堵塞可以從以下幾��(gè)方面��(jìn)行評(píng)估判定：

    1、在��(jìn)水溫度、流量不變的情況��，��(jìn)水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始��(shù)��(jù)升高45%��

    2、在��(jìn)水溫��、流量不變的情況��，濃水��(jìn)水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始��(shù)��(jù)升高45%��

    3、在��(jìn)水溫��、流量及電導(dǎo)率不變的情況��，產(chǎn)水水��(zhì)（電阻率）明顯下����

    4、在��(jìn)水、流量不變的情況��，濃水排水流量下��55%��

    反滲透純水設(shè)����(rèn)為當(dāng)遇到以上情況��(shí)，要分析EDI模塊被污堵的原因以及及時(shí)確定化學(xué)清洗方案和EDI模塊再生方法，及��(shí)��(jìn)行EDI模塊的清洗和再生，盡量避免對(duì)生產(chǎn)��(yùn)行造成的影����