��超純水設(shè)��的運(yùn)行中，雖然edi模塊的��(jìn)水條件在很大程度上減少了模塊��(nèi)部阻塞的��(jī)��(huì)，但是隨��edi超純水設(shè)����(yùn)行時(shí)間的延展，edi模塊��(nèi)部水道還是有可能��(chǎn)生阻��，這主要是��(jìn)水中含有較多的溶��(zhì)。那么，怎么��(duì)edi模塊淡水室結(jié)垢��(jìn)行清洗呢��

1、記錄清洗前所有數(shù)��(jù)��

2、分離edi��(shè)備與其他純水��(shè)��的連接管路��

3、連接edi清洗裝置，使清洗泵通過(guò)��(jìn)水管路分別��(jìn)入edi模塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開(kāi)啟所有的��(jìn)出水閥門(mén)��

4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液��

5、酸洗步驟：?jiǎn)��?dòng)清洗��，分別調(diào)節(jié)濃水、��(jìn)水閥，以��(guī)定的流量循環(huán)清洗��

6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢��，分離濃水排水閥至地����

7、沖洗步驟：向清洗水箱連續(xù)注入清洗��反滲透純水設(shè)��RO��(chǎn)水），啟��(dòng)清洗泵連續(xù)清洗��

8、分別檢��(cè)淡水、濃水出水側(cè)的水��(zhì)，直到與��(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相����

9、調(diào)節(jié)各��(gè)閥門(mén)，恢��(fù)原始各設(shè)��(jì)流量��(shù)��(jù)��

10、停��(jī)，恢��(fù)edi各��(gè)管路與其它系��(tǒng)的連接��

11、再生步驟：��(kāi)啟PLC控制柜電��，向edi模塊送電，��(jìn)行再��，直至電阻率��(dá)到出水要求為����

12、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)��，并作好初次��(yùn)行的��(shù)��(jù)記錄��

    淡水室的清洗相對(duì)于濃水室��(lái)��(shuō)，清洗過(guò)程沒(méi)有這么��(fù)��，同��(shí)清洗的難度也��(méi)有這么��。畢竟相��(duì)于濃水室��(lái)��(shuō)，淡水室的結(jié)垢情況沒(méi)有遠(yuǎn)��(yuǎn)��(méi)有濃水室這么��(yán)����